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銅酞菁齊聚物/聚合物高介電常數(shù)復合薄膜的制備方法

763   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
2023-03-18 17:10:24
一種銅酞菁齊聚物/聚合物高介電常數(shù)復合薄膜的制備方法,屬于高介電常數(shù)高分子復合材料領域。是將銅酞菁齊聚物化學接枝到聚合物上,然后利用溶液澆鑄法制備銅酞菁齊聚物/聚合物復合薄膜。聚合物為帶有PVDF基團的聚合物、聚氨酯、環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂彈性體或聚對氯甲基苯乙烯之任一種。PVDF基聚合物需要在接枝前增加活性芐氯基團。利用該方法制備的復合薄膜均勻致密,具有較好的柔韌性,且銅酞菁齊聚物含量為15%時,復合物在室溫及100Hz頻率下的介電常數(shù)高達400以上,介電損耗低于0.24,性能遠高于通常的鐵電陶瓷/聚合物復合材料。
聲明:
“銅酞菁齊聚物/聚合物高介電常數(shù)復合薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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