本發(fā)明提供了一種用于減少晶圓邊緣良率測(cè)試問題的方法,包括:第一步驟:獲取對(duì)晶圓的鈍化層執(zhí)行光刻所將要采用的圖案化光罩和圖案化光阻;第二步驟:將所述圖案化光罩變成反相的以得到反相的圖案化光罩,而且在保持光阻圖案不變的情況下使得所述圖案化光阻的正負(fù)屬性變化以得到相反的圖案化光阻;第三步驟:利用所述反相的圖案化光罩和所述相反的圖案化光阻,對(duì)晶圓執(zhí)行光刻。在本發(fā)明的用于減少晶圓邊緣良率測(cè)試問題的方法中,將鈍化層的光罩和光阻都變成反相的,這樣既保持了晶圓中,除去邊緣位置開始的預(yù)定部分,其他部分圖形不變;而從邊緣起到預(yù)定部分,鈍化層保留下來,這樣就不會(huì)產(chǎn)生測(cè)試假失效的問題。
聲明:
“用于減少晶圓邊緣良率測(cè)試問題的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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