本申請涉及失效分析技術(shù)領(lǐng)域,具體公開一種器件失效分析定位方法,包括:對掃描探頭進(jìn)行校準(zhǔn),獲取校準(zhǔn)數(shù)據(jù);控制掃描探頭對待測器件進(jìn)行掃描,并獲得第一參數(shù)信息,第一參數(shù)信息用于表征待測器件掃描高度平面的電磁場信息;根據(jù)第一參數(shù)信息和校準(zhǔn)數(shù)據(jù),確定待測器件目標(biāo)高度平面的電磁場信息;根據(jù)待測器件目標(biāo)高度平面的電磁場信息,確定待測器件表面的電學(xué)分布;根據(jù)待測器件表面的電學(xué)分布,確定待測器件的失效位置?;陔姶抛⑷牒吞綔y的原理,結(jié)合待測器件表面的電磁場信息實(shí)現(xiàn)對待測器件的失效位置的分析,相對于傳統(tǒng)的失效分析方法而言,成本較低,且無需對待測器件進(jìn)行破壞,整體失效定位方法可靠性較高。
聲明:
“器件失效定位分析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)