本發(fā)明提供了一種反射型掩模體的缺陷檢測方法及缺陷檢測系統(tǒng)。該缺陷檢測方法中,通過采集來自掩模體的反射光以得到對應的光強度分布,進而可根據(jù)光強度分布分析并揭示出掩模體內(nèi)的缺陷信息。該缺陷檢測方法是基于光學檢測過程而能夠快速且無損的實現(xiàn)對掩模體的缺陷檢測。
聲明:
“反射型掩模體的缺陷檢測方法及缺陷檢測系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)