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低真空痕量氣體的快速無(wú)損采樣分析裝置和方法

678   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:02
本發(fā)明提出了一種低真空痕量氣體的快速無(wú)損采樣分析裝置和方法,該裝置包括真空獲得模塊、采樣模塊、氣體分析模塊和控制模塊。其中真空獲得模塊包括二級(jí)真空腔室、真空泵組和隔斷閥。采樣模塊包括工藝腔室、連接法蘭、采樣細(xì)管、截止閥、微孔法蘭、二級(jí)真空腔室和電離單元的微孔。氣體分析模塊包括總壓監(jiān)測(cè)器、電離單元、質(zhì)量分析器和探測(cè)器等。本發(fā)明裝置解決了低真空氣體采樣分析過(guò)程中出現(xiàn)的質(zhì)量歧視效應(yīng),真正做到了無(wú)損采樣,測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確;半封閉式電離單元可保持更高壓力,提高了采樣量;降低了采樣時(shí)二級(jí)真空腔室的本底,降低了采樣帶來(lái)的本底干擾和微量氣體的損失,進(jìn)一步提高了裝置的檢測(cè)下限,更能分析具有極低濃度的氣體。
聲明:
“低真空痕量氣體的快速無(wú)損采樣分析裝置和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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