本實(shí)用新型公開(kāi)了一種氣體采樣裝置及采氣系統(tǒng)，其氣體采樣裝置包括：殼體，進(jìn)氣管路的一端設(shè)置在所述殼體內(nèi)部，出氣管路的一端設(shè)置在所述殼體內(nèi)部；儲(chǔ)氣室，儲(chǔ)氣室設(shè)置在殼體內(nèi)，且與進(jìn)氣管路和出氣管路連通；第一閥門，第一閥門為多個(gè)，分別設(shè)置在進(jìn)氣管路和出氣管路上；加熱部，加熱部設(shè)置在儲(chǔ)氣室和進(jìn)氣管路外部。本實(shí)用新型的氣體采樣裝置可用于具有不同井口壓力的氣井，對(duì)于低壓氣井的天然氣可進(jìn)行加熱增壓，以獲取足量氣體以供后續(xù)分析測(cè)試等工作，對(duì)于含有C5?C8的氣體，可通過(guò)加熱部加熱進(jìn)氣管路實(shí)現(xiàn)C5?C8的捕獲，以便在后期實(shí)驗(yàn)室測(cè)試時(shí)獲取更多的天然氣地球化學(xué)信息。