本發(fā)明氫氧化鈉溶液,所述氫氧化鈉溶液的濃度為6%。本發(fā)明單晶測(cè)試樣片腐蝕溶液及腐蝕方法將腐蝕單晶測(cè)試樣片的化學(xué)藥液用堿溶液來(lái)代替混酸溶液。堿溶液與硅反應(yīng)時(shí)生成物為硅酸鹽及氫氣,硅酸鹽與氫氣對(duì)環(huán)境基本無(wú)影響,且反應(yīng)時(shí)產(chǎn)生的氫氣對(duì)操作人員也沒(méi)什么危害。
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“單晶測(cè)試樣片腐蝕溶液及腐蝕方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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