本發(fā)明公開了一種用于微測(cè)輻射熱計(jì)的氧化釩薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:①清洗襯底,吹干后備用;②利用化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、弧光放電系統(tǒng)、激光燒蝕沉積系統(tǒng)反應(yīng)器當(dāng)中的一種,通過(guò)金屬催化劑誘導(dǎo),在清潔襯底的表面直接反應(yīng)生長(zhǎng)網(wǎng)狀、或交錯(cuò)互聯(lián)的碳納米管膜;③把生長(zhǎng)有碳納米管膜的襯底放入抽為真空的反應(yīng)器中,利用反應(yīng)器生長(zhǎng)一層氧化釩膜,所生長(zhǎng)的氧化釩膜分散在碳納米管的表面、以及管與管的間隙當(dāng)中,退火,形成氧化釩-碳納米管復(fù)合膜結(jié)構(gòu);④冷卻至室溫后,從反應(yīng)器中取出;⑤根據(jù)需要,依次重復(fù)碳納米管生長(zhǎng)、氧化釩沉積和退火步驟,形成氧化釩-碳納米管多層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)。