本發(fā)明屬于材料表面改性和金屬熔鹽電沉積領(lǐng)域,特別涉及一種熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法,包括以下步驟:在氟化鋰LiF、氯化鋰LiCl、氟化鈉NaF、氯化鈉NaCl、氟化鉀KF或氯化鉀KCl中的任意至少兩種化合物中,添加氟化鉭TaF5、氯化鉭TaCl5或氧化鉭T2O5,組到電解質(zhì)熔鹽;以石墨為陽(yáng)極,待鍍Ni-Ti合金為陰極,在電解質(zhì)熔鹽的初晶溫度之上5~30℃進(jìn)行電沉積,電流密度0.1~0.5A/cm2,電解1~5h,在陰極表面得到致密的鉭涂層。本發(fā)明的電沉積過(guò)程穩(wěn)定,涂層牢固,粘接性能優(yōu)良,涂層均勻且成本低廉,可以在形狀復(fù)雜的Ni-Ti工件、器件表面制備涂層。
聲明:
“鹵化物熔鹽電沉積制備Ni-Ti表面鉭鍍層的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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