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片上調(diào)制的集成光學(xué)諧振腔

711   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 23:16:34
本發(fā)明提供了一種片上調(diào)制的集成光學(xué)諧振腔,應(yīng)用多層波導(dǎo)結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)集成光學(xué)諧振腔的有源無源器件的高度集成化設(shè)計。本發(fā)明的集成光學(xué)諧振腔為集成的上下兩層結(jié)構(gòu),在下層的波導(dǎo)基底上制備諧振腔和傳輸波導(dǎo),鈮酸鋰波導(dǎo)調(diào)制器制作在諧振腔上層,鈮酸鋰波導(dǎo)調(diào)制器通過在鈮酸鋰波導(dǎo)兩側(cè)施加電場,改變波導(dǎo)的等效折射率,實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)中光相位延遲量的調(diào)制。鈮酸鋰波導(dǎo)與位于下層的諧振腔或傳輸波導(dǎo)之間制備有跨層耦合器。本發(fā)明去除了外部調(diào)制器與諧振腔的光纖耦合結(jié)構(gòu),采用調(diào)制器與諧振腔的垂直直接耦合,可減小入腔光偏振消光比的衰減,以保持更高的入腔偏振消光比,簡化了系統(tǒng)模型,提高了系統(tǒng)集成化程度,增強(qiáng)了系統(tǒng)可靠性。
聲明:
“片上調(diào)制的集成光學(xué)諧振腔” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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