本發(fā)明屬于非線性光學(xué)晶體技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種摻釔鈮酸鋰晶體,其特殊之處在于:是在鈮酸鋰中摻入錫離子Y3+,其中摩爾比[Li]/[Nb]=0.93~1.41,Y3+的摻入量摩爾百分比為0.5~6.0mol%。本發(fā)明的有益效果是,本發(fā)明提供的摻釔鈮酸鋰晶體具有摻雜閾值較低,抗光折變能力較強(qiáng),且易于生長等優(yōu)點(diǎn)??梢匀〈邠芥V鈮酸鋰晶體的應(yīng)用,具有廣泛的市場前景。
聲明:
“摻釔鈮酸鋰晶體及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)