本發(fā)明公開(kāi)了一種用于鈮酸鋰光學(xué)晶片研磨拋光的拋光液。本發(fā)明拋光液成分和體積%比組成如下:硅溶膠30～90;有機(jī)胺堿1～10;無(wú)機(jī)堿1～5;活性劑0.5～5;螯合劑FA/O 0.5～5;去離子水為余量。本發(fā)明在CMP條件下,在高pH值條件下,將鋰離子形成極穩(wěn)定的絡(luò)合物和形成易溶于水的鈮酸鹽,提高效率和表面質(zhì)量;本發(fā)明通過(guò)有機(jī)堿與鈮酸鋰表面物質(zhì)形成可溶性胺鹽,易于脫離反應(yīng)表面,從而避免增加磨料粒度和拋光液的黏度,有效地解決了劃傷、平整性和吸附物去除問(wèn)題。