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基于反卷積的雙光路光譜測量裝置

685   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-06 00:30:05
本發(fā)明涉及一種基于反卷積的雙光路光譜測量裝置,其特征在于該裝置設(shè)置為雙光路結(jié)構(gòu),一光路由目標(biāo)物鏡、狹縫、準(zhǔn)直鏡、分束鏡、色散元件、第一匯聚鏡頭和第一CCD相機(jī)依次組成,另一光路由分束鏡、第二匯聚鏡頭和CCD相機(jī)依次組成。本發(fā)明針對現(xiàn)有基于狹縫的光譜儀在弱光下探測能力受限的關(guān)鍵問題,采用一個更寬的狹縫來代替,以增加系統(tǒng)的光通過量,使其在弱光下有更好的探測能力,并通過計算未色散光的原像和色散后光的像的反卷積來獲取光源光譜。本發(fā)明廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、化工、醫(yī)藥和環(huán)境等領(lǐng)域,特別適用于像生物醫(yī)學(xué)、夜視等弱光場合,應(yīng)用范圍寬廣。
聲明:
“基于反卷積的雙光路光譜測量裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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