本發(fā)明公開了一種高介電常數(shù)二氧化鋯納米晶體/聚酰亞胺復(fù)合薄膜及其制備方法，涉及高介電常數(shù)復(fù)合材料以及旋涂制備優(yōu)質(zhì)薄膜技術(shù)領(lǐng)域。該方法通過制備的二氧化鋯納米晶體與聚酰胺酸的前體溶液，采用具有普適性的溶液成膜技術(shù)將該前體溶液在基片上制備成膜，最后經(jīng)過熱亞胺化處理得到高介電常數(shù)二氧化鋯納米晶體/聚酰亞胺復(fù)合薄膜。本發(fā)明利用簡單溶液法制備高質(zhì)量的高介電常數(shù)二氧化鋯納米晶體/聚酰亞胺復(fù)合薄膜，大大簡化了制備工藝，節(jié)約了制備成本，制備得到的高介電常數(shù)復(fù)合薄膜具有較高的介電常數(shù)和較好的表面平整度。