4-Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)的合成方法及其應(yīng)用于光電解水,復(fù)合材料"> 4-Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)的合成方法及其應(yīng)用于光電解水,本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種BiVO4?Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)合成方法,首先采用電沉積法在FTO基片上生長(zhǎng)一層BiOI納米顆粒,再將乙酰丙酮氧釩水溶液滴加在FTO表面,高溫煅燒后生成釩酸鉍(BiVO4),通過(guò)連續(xù)離子吸附反應(yīng),將FTO傾斜放置在含有Co(NO3)2·6H2O、Ni(NO3)2·6H2O、C6H12N4、CH4N2O和NH4F的去離子水溶液中,120~200℃水熱反應(yīng)2~5h,取出用去離子水洗凈,300~500℃退火時(shí)間1.5~3">

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BiVO4-Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)的合成方法及其應(yīng)用于光電解水

655   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:28:51
本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種BiVO4?Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)合成方法,首先采用電沉積法在FTO基片上生長(zhǎng)一層BiOI納米顆粒,再將乙酰丙酮氧釩水溶液滴加在FTO表面,高溫煅燒后生成釩酸鉍(BiVO4),通過(guò)連續(xù)離子吸附反應(yīng),將FTO傾斜放置在含有Co(NO3)2·6H2O、Ni(NO3)2·6H2O、C6H12N4、CH4N2O和NH4F的去離子水溶液中,120~200℃水熱反應(yīng)2~5h,取出用去離子水洗凈,300~500℃退火時(shí)間1.5~3h,自然冷卻至室溫,即得。本發(fā)明還將所制得的異質(zhì)結(jié),作為光電極應(yīng)用于光電化學(xué)水解反應(yīng)。本發(fā)明利用簡(jiǎn)單的電沉積法和水熱法,操作簡(jiǎn)單,重復(fù)性好,且所用材料成本低,儲(chǔ)量大,無(wú)毒性,符合環(huán)境友好要求;所制得材料能顯著降低界面反應(yīng)勢(shì)壘,有效抑制固液界面電荷復(fù)合,加快水氧化反應(yīng)動(dòng)力學(xué),提高光電流密度從而更好的利用太陽(yáng)能。
聲明:
“BiVO4-Ni/Co3O4異質(zhì)結(jié)的合成方法及其應(yīng)用于光電解水” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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