本發(fā)明公開了一種
鎂電解槽和鎂電解工藝,包括電解槽本體,電解槽本體由碳素材料制成,電解槽本體在中間處設(shè)有一分隔墻以使得電解槽本體被分為電解池和還原室,電解池和還原室上部由分隔墻隔離,下部連通;電解池的上方敞開,還原室上方有蓋板密封,電解池內(nèi)安裝有陽極塊;蓋板或還原室的上部的側(cè)壁上開設(shè)有連接口。該鎂電解工藝采用二氧化硅、氧化鈣、氟化鈣、氧化鎂為電解液,直接用氧化鎂為原料。本發(fā)明提供的鎂電解槽結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,建造方便,配合本發(fā)明提供的鎂電解工藝,具有工藝流程短、能耗低、電解液和原料獲取容易等優(yōu)點(diǎn),將極大地推動(dòng)
鎂冶金工業(yè)的發(fā)展,并改善環(huán)境污染的問題。
聲明:
“鎂電解槽及鎂電解工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)