一種真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤,包括環(huán)形的盤體(1)和設(shè)在盤體(1)內(nèi)圈的支撐環(huán)臺(4),開設(shè)在支撐環(huán)臺(4)中心并同時(shí)位于盤體(1)中心的發(fā)熱體穿入孔(2),開設(shè)在支撐環(huán)臺(4)及匯流槽(5)上的物料流出孔(3),設(shè)在盤體(1)上位于不同圓弧線上的匯流槽(5),設(shè)在匯流槽(5)之間的支撐環(huán)(6),以及設(shè)在匯流槽(5)上物料流出孔(3)底部的滴嘴(7)。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):可有效防止金屬液沿著匯流盤底部向四周擴(kuò)散,造成設(shè)備故障。
聲明:
“真空蒸餾冶金分離爐用匯流盤” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)