一種暗場(chǎng)缺陷檢測(cè)設(shè)備自對(duì)準(zhǔn)工藝窗口的校正方法，包括：步驟S1：提供測(cè)試晶圓，具有不同功能膜層厚度和面積的測(cè)試區(qū)域；步驟S2：測(cè)試不同測(cè)試區(qū)域，并收集不同反射光信號(hào)強(qiáng)度；步驟S3：對(duì)反射光信號(hào)強(qiáng)度Y進(jìn)行擬合，得到擬合公式Y(jié)＝αxn+βyn+γ；步驟S4：根據(jù)擬合公式，結(jié)合實(shí)際工藝生產(chǎn)中功能膜層之厚度和面積，推算所需的自對(duì)準(zhǔn)光強(qiáng)值，進(jìn)而對(duì)暗場(chǎng)缺陷掃描設(shè)備實(shí)現(xiàn)參數(shù)調(diào)整。本發(fā)明通過對(duì)不同功能膜層厚度和面積的測(cè)試區(qū)域進(jìn)行多觀測(cè)點(diǎn)測(cè)試，得到擬合公式，即可推算所需的自對(duì)準(zhǔn)光強(qiáng)值，不僅有效避免因功能膜層過暗或過亮導(dǎo)致的自對(duì)準(zhǔn)失效，而且可實(shí)時(shí)調(diào)整暗場(chǎng)缺陷檢測(cè)設(shè)備之參數(shù)，保證暗場(chǎng)缺陷檢測(cè)設(shè)備之光強(qiáng)值滿足自對(duì)準(zhǔn)校正的有效范圍。