本發(fā)明公開了一種深溝槽產(chǎn)品的物理分析結(jié)構(gòu),形成于劃片槽區(qū),由一系列寬度依次減少、且平行放置的分析溝槽組成,用于為深溝槽在分析時提供深度標(biāo)記。本發(fā)明還公開了一種深溝槽產(chǎn)品的物理分析方法。本發(fā)明能在深溝槽產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)分析或失效分析時為深溝槽的不同深度位置實現(xiàn)準(zhǔn)確定位,能夠?qū)崿F(xiàn)對深溝槽產(chǎn)品的質(zhì)量進行準(zhǔn)確和快速的分析,能夠提高結(jié)構(gòu)分析或失效分析的質(zhì)量和效率,從而也能提高產(chǎn)品的生長質(zhì)量和效率。本發(fā)明的物理分析結(jié)構(gòu)并不需要占用
芯片區(qū)的面積,且物理分析結(jié)構(gòu)的各分析溝槽采用和深溝槽的同一塊掩膜板制作,工藝成本低。
聲明:
“深溝槽產(chǎn)品的物理分析結(jié)構(gòu)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)