本實(shí)用新型揭示了一種失效檢測(cè)結(jié)構(gòu)。所述失效檢測(cè)結(jié)構(gòu)包括:形成于半導(dǎo)體基底上的參考部分和檢測(cè)部分;所述參考部分和檢測(cè)部分皆包括位于所述半導(dǎo)體基底上的第一輔助金屬、覆蓋所述半導(dǎo)體基底和第一輔助金屬的介質(zhì)層、位于所述介質(zhì)層上的中央金屬和圍繞所述中央金屬的第二輔助金屬、以及位于所述中央金屬上的插塞,所述第二輔助金屬與所述中央金屬之間具有一溝槽;所述參考部分中插塞與中央金屬的邊緣的距離大于所述檢測(cè)部分中插塞與中央金屬的邊緣的距離。通過(guò)比較參考部分和檢測(cè)部分相應(yīng)的漏電流,能夠判斷出缺陷類型,并得到較為精確的缺陷數(shù)據(jù)。本實(shí)用新型降低了檢測(cè)成本,提高了檢測(cè)效率。
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“失效檢測(cè)結(jié)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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