一種用于通過化學(xué)氣相沉積制造合成金剛石材料的微波等離子體反應(yīng)器,所述微波等離子體反應(yīng)器包括:等離子體室;布置于等離子體室中用于支承基底的基底保持器,在使用時(shí)合成金剛石材料沉積于所述基底上;用于將微波從微波產(chǎn)生器給送至等離子體室內(nèi)的微波耦合構(gòu)造,以及用于將處理氣體給送至等離子體室內(nèi)并且從等離子體室移除處理氣體的氣體流動(dòng)系統(tǒng);其中,氣體流動(dòng)系統(tǒng)包括氣體入口噴嘴陣列,所述氣體入口噴嘴陣列包括布置成與基底保持器相對(duì)的用于指引處理氣體朝向基底保持器的多個(gè)氣體入口噴嘴,氣體入口噴嘴陣列包括:布置為相對(duì)于等離子體室的中心軸線基本平行或發(fā)散定向的至少六個(gè)氣體入口噴嘴;氣體入口噴嘴數(shù)量密度等于或大于0.1噴嘴數(shù)/平方厘米,其中,通過使噴嘴突出至其法線位置平行于等離子體室的中心軸線的平面上并且測(cè)量在所述平面上的氣體入口數(shù)量密度,來測(cè)量氣體入口噴嘴數(shù)量密度;以及噴嘴面積比值等于或大于10,其中,通過使噴嘴突出至其法線位置平行于等離子體室的中心軸線的平面上、測(cè)量在所述平面上的氣體入口噴嘴區(qū)域的總面積、除以噴嘴的總數(shù)量以給出與每一個(gè)噴嘴相關(guān)的面積、以及用與每一個(gè)噴嘴相關(guān)的面積除以每一個(gè)噴嘴的實(shí)際面積,來測(cè)量噴嘴面積比值。
聲明:
“用于制造合成金剛石材料的微波等離子體反應(yīng)器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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