本實用新型屬于化學設備技術領域,尤其為一種新型濕式氧化法脫H2S再生沉降器,包括沉降機體,所述沉降機體頂部開設有檢修口,所述沉降機體頂部開設有安裝腔,所述檢修口與所述安裝腔連通,且所述安裝腔內(nèi)設有與所述檢修口相對應的封閉蓋,所述封閉蓋底部具有延長板,所述延長板兩側均固定連接有限位塊;封閉蓋上的延長板能夠覆蓋在檢修口的頂部,能夠保證檢修口與封閉蓋的密封性,在當需要檢修時,只需要通過把手拉動封閉蓋,使定位柱脫離定位槽,滑動封閉蓋,即可將沉降機體上的檢修口露出來,這種滑動的方式能夠使封閉蓋穩(wěn)定的覆蓋著檢修口,不易或不會使氣體在發(fā)生反應時從檢修口散出,提高氣體反應的效果。
聲明:
“新型濕式氧化法脫H2S再生沉降器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)