本發(fā)明公開了一種晶圓承載裝置，包括晶圓承載臺、用于支撐晶圓承載臺的承載支柱、設(shè)置在承載支柱內(nèi)的緩沖裝置和預(yù)清洗裝置，還包括可旋轉(zhuǎn)、可豎直移動以及可水平移動的真空晶圓夾盤，真空晶圓夾盤四周還設(shè)置多個有限位夾具和驅(qū)動限位夾具相對于真空晶圓夾盤移動的驅(qū)動裝置，還包括設(shè)置在真空晶圓夾盤上的位置傳感器，利用可移動的限位夾具矯正晶圓相對于晶圓承載裝置的位置，從而在檢測系統(tǒng)不報警的情況下，依然能夠保證晶圓位置準(zhǔn)確，避免在后續(xù)的工藝過程中晶圓相對目標(biāo)位置錯位的情況發(fā)生，設(shè)置預(yù)清洗裝置，在晶圓卸載至晶圓承載臺之前對晶圓進(jìn)行預(yù)清洗，去除晶圓表面殘留的化學(xué)液，避免殘留的化學(xué)液對已加工完成的晶圓產(chǎn)生腐蝕。