本發(fā)明提供一種零模波導(dǎo)孔孔壁的修飾方法，該方法包括覆蓋聚合物、紫外光照射在金屬覆蓋層的表面形成第一化學(xué)鍵以及聚合物進(jìn)行剝離。本發(fā)明還涉及一種零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)。本發(fā)明通過在零模波導(dǎo)孔的孔壁上覆蓋聚合物，通過紫外光進(jìn)行照射在金屬覆蓋層的表面進(jìn)行鍵合形成具有高折射率非反射的第一化學(xué)鍵；增加高折射率非反射材料的第一化學(xué)鍵的沉積厚度可以縮小零模波導(dǎo)孔的孔內(nèi)體積，顯著減小孔內(nèi)的游離核苷酸，提高信噪比。另外，通過在孔內(nèi)部沉積高折射率非反射材料的第一化學(xué)鍵可以使被激發(fā)熒光的位置遠(yuǎn)離零模波導(dǎo)孔的金屬壁，使熒光不會減弱甚至淬滅，熒光效果增強(qiáng)的同時(shí)也使得檢測更加靈敏。