本發(fā)明的實(shí)施方式的氫滲透試驗(yàn)裝置,是使用
電化學(xué)氫滲透法測量侵入到金屬材料的氫量的氫滲透試驗(yàn)裝置(1),其具備:金屬試驗(yàn)片(2),所述金屬試驗(yàn)片(2)具有氫侵入的氫侵入面(2a)、檢測侵入的氫的氫檢測面(2b)、形成于氫檢測面并用于高效率檢測氫的金屬鍍覆;用于使電化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行的參比電極(5b)和相對極(4b);電解容器(3b),所述電解容器(3b)設(shè)于氫檢測面?zhèn)?,收容參比電極(5b)和相對極(4b),并且收容氫檢測面(2b)的電位相對于參比電極(5b)為-1V~1V時(shí),剩余電流能夠抑制在10nA/cm2以下的、凝固點(diǎn)在0℃以下的硅酸鈉水溶液(6b);測量部(7b、8),所述測量部(7b、8)基于由電化學(xué)反應(yīng)而得到的電流值測量氫量。
聲明:
“氫滲透試驗(yàn)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)