本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中在制備非制冷紅外探測(cè)器中的熱敏薄膜的過(guò)程中,PECVD方法的工藝窗口狹窄、形成熱敏薄膜的過(guò)程中易導(dǎo)致工藝波動(dòng)的缺陷,提供了一種非晶硅熱敏薄膜的制備方法以及非制冷非晶硅微測(cè)輻射熱計(jì)的制備方法,能夠提供寬的工藝窗口并克服熱敏薄膜制備過(guò)程中的工藝波動(dòng)。一種非晶硅熱敏薄膜的制備方法,該方法包括:將晶圓放入等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積反應(yīng)腔中,對(duì)所述晶圓進(jìn)行本征非晶硅薄膜淀積;對(duì)淀積后的本征非晶硅薄膜進(jìn)行注入摻雜。
聲明:
“非晶硅熱敏薄膜及非制冷非晶硅微測(cè)輻射熱計(jì)的制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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