本發(fā)明屬于光電探測(cè)相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域,其公開了一種氧等離子體處理的硒氧化鉍納米片光電探測(cè)器及制備方法,所述制備方法包括以下步驟:(1)采用化學(xué)氣相沉積方法在襯底上制備硒氧化鉍納米片;(2)采用激光直寫或者電子束曝光技術(shù),結(jié)合熱蒸發(fā)及電子束蒸發(fā)在所述硒氧化鉍納米片上制備一對(duì)源漏金屬電極;(3)對(duì)所述硒氧化鉍納米片進(jìn)行氧等離子體處理,由此得到硒氧化鉍納米片光電探測(cè)器。本發(fā)明采用等離子體處理的方法,可以使得硒氧化鉍納米片的初始暗態(tài)電流下降,可以增大器件的光響應(yīng),且制備方法工藝簡(jiǎn)單,操作容易,成本較低,有望應(yīng)用于大規(guī)模改善硒氧化鉍納米片光電探測(cè)器的性能,為硒氧化鉍在光電探測(cè)器的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。
聲明:
“氧等離子體處理的硒氧化鉍納米片光電探測(cè)器及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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