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基于中紅外吸收光譜的高嶺石羥基插層/接枝率測試方法

878   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:27:46
本發(fā)明涉及一種基于紅外吸收光譜的高嶺石羥基插層/接枝率測試方法,包括以下步驟:(1)溴化鉀壓片法制備樣品;(2)利用擬合方法將高嶺石的中紅外光譜的羥基混合峰擬合為4個單峰,(3)以特征峰在3620.0cm?1的單峰為參考峰,以特征峰在3650.0cm?1附近,3668.0cm?1附近,3694.8cm?1附近三個單峰之一為定量峰;分別測試高嶺石原礦樣品和待測樣品參考峰峰面積和定量峰的峰面積;設(shè)置相關(guān)系數(shù)根據(jù)公式計算得到樣品礦石的羥基接枝率。采用本發(fā)明方法可以快速,準(zhǔn)確的利用中紅外光譜測試高嶺石的羥基插層/接枝率,對高嶺石的化學(xué)行為研究,納米形貌改造,礦物定量改性方法研究具有重要的意義。
聲明:
“基于中紅外吸收光譜的高嶺石羥基插層/接枝率測試方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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