本發(fā)明提供了在線測試半導(dǎo)體器件襯底的方法，包括：在半導(dǎo)體器件襯底上形成低K介電材料，在低K介電材料表面形成頂部介質(zhì)阻擋層，再在低K介電材料和頂部介質(zhì)阻擋層中刻蝕出溝槽，然后在溝槽中填充金屬；進行第一次化學(xué)機械研磨工藝，使填充的金屬頂部與溝槽頂部齊平，從而得到低K介電材料表面覆蓋有介質(zhì)阻擋層的互連層結(jié)構(gòu)，作為待測半導(dǎo)體器件襯底；對低K介電材料表面覆蓋有介質(zhì)阻擋層的待測半導(dǎo)體器件襯底執(zhí)行在線測試；在線測試中填充的金屬頂部表面生成氧化物；進行第二次化學(xué)機械研磨工藝，去除填充的金屬表面生成的氧化物和低K介質(zhì)材料表面的頂部介質(zhì)阻擋層。本發(fā)明確保在線測試后得到?jīng)]有氧化膜的互連結(jié)構(gòu)和無損傷的低K介電材料。