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基于渦旋光束的暗場共聚焦拉曼偏振光譜測量裝置與方法

1074 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-19 07:22:35

基于渦旋光束的暗場共聚焦拉曼偏振光譜測量裝置與方法，屬于光學精密測量技術領域。本發(fā)明裝置包括光纖雙波長光照明模塊、明場共聚焦模塊、暗場偏振共焦拉曼光譜分析模塊；通過光纖產生環(huán)形照明光束與互補孔徑遮擋探測，有效分離樣品表面反射信號與亞表面散射信號，可同時獲取微米級表面及亞表面劃痕、磨損及亞表面裂痕、氣泡等缺陷的三維分布信息；共聚焦拉曼光譜測量可對樣品化學分子成分等性質進行三維檢測分析；通過引入偏振信息測量，可以分析物質極性。

聲明：

“基于渦旋光束的暗場共聚焦拉曼偏振光譜測量裝置與方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)