一種基材處理系統(tǒng),其包括一真空沉積處理室,該處理室具有一排氣出口,用以在一沉積循環(huán)中排放一或多種顆粒及在一清潔循環(huán)中排放清潔氣體反應物;及一原位顆粒監(jiān)測器,其耦接至排氣出口。原位顆粒監(jiān)測器設置成可決定清潔循環(huán)的一起始點。等離子強化的化學氣相沉積室更包括一紅外光終點檢測器組件,其耦接至排氣出口。紅外光終點檢測器組件設置成可決定清潔循環(huán)的一終點。
聲明:
“終點檢測器及顆粒監(jiān)測器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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