本發(fā)明公開(kāi)了晶圓雙面化學(xué)機(jī)械研磨拋光用冷卻裝置及方法，包括設(shè)于研磨拋光機(jī)構(gòu)上的冷卻機(jī)構(gòu)、調(diào)節(jié)系統(tǒng)和顯示控制系統(tǒng)，冷卻機(jī)構(gòu)包括冷卻盤(pán)體，冷卻盤(pán)體的內(nèi)部通過(guò)冷卻通道形成冷卻腔，冷卻通道包括內(nèi)圈圓環(huán)形的通道和外圈環(huán)狀波浪形的通道。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，在使用的過(guò)程中，將晶圓放入行星輪中并加入含適量磨粒的研磨液，通過(guò)操作面板設(shè)置所需工作溫度，啟動(dòng)裝置，通過(guò)顯示面板即可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)工作溫度。冷卻液沿特定的冷卻通道對(duì)下磨盤(pán)進(jìn)行強(qiáng)制冷卻，有效地控制了晶圓的加工溫度，提高了晶圓研磨拋光的表面質(zhì)量，降低了晶圓碎片概率。