本發(fā)明公開(kāi)了屬于復(fù)合發(fā)光材料制備技術(shù)領(lǐng)域的一種三聯(lián)吡啶氯化釕(II)與水滑石復(fù)合的電化學(xué)發(fā)光超薄膜及其制備方法。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：利用水滑石層板的剛性結(jié)構(gòu)和二維空間的限域作用，實(shí)現(xiàn)了光活性配合物的固定化以及在分子尺度上的有序排列，降低了因分子間聚集而產(chǎn)生的紅移和熒光淬滅，同時(shí)簡(jiǎn)化了電化學(xué)發(fā)光分析實(shí)驗(yàn)裝置和減少溶劑的損耗。該薄膜制備過(guò)程易于操作，薄膜的發(fā)光強(qiáng)度以及薄膜厚度均可通過(guò)改變組裝次數(shù)實(shí)現(xiàn)精確可控。