本發(fā)明公開了一種用于化學機械拋光的承載頭，其包括承載盤、彈性膜和保持環(huán)，所述彈性膜設置于承載盤的下方，所述保持環(huán)設置于所述彈性膜的外周側(cè)并位于承載盤的底部；所述彈性膜包括底板部、直立部和水平部，所述底板部為盤狀結(jié)構(gòu)，直立部沿所述底板部的外緣豎直向上延伸，所述水平部自所述直立部的頂端水平向內(nèi)延伸；還包括應變檢測件和位置調(diào)節(jié)件，應變檢測件沿周向設置于承載盤的底部，并且，所述彈性膜加壓后，所述水平部抵接于應變檢測件，以測量水平部的應力信息；位置調(diào)節(jié)件與應變檢測件水平相鄰設置于承載盤，位置調(diào)節(jié)件能夠抵接于水平部，其基于應變檢測件的測量值調(diào)節(jié)水平部的應力，使得水平部構(gòu)成的腔室沿圓周方向的變形均勻。