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可測(cè)量研磨墊高度偏差的化學(xué)機(jī)械研磨裝置的調(diào)節(jié)器

1126   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 06:49:09
本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置的調(diào)節(jié)器,其作為在化學(xué)機(jī)械研磨工藝中,對(duì)與晶元板面接觸的研磨墊表面進(jìn)行改質(zhì)的化學(xué)機(jī)械研磨裝置的調(diào)節(jié)器,其包括:臂,其從旋轉(zhuǎn)中心延伸并進(jìn)行往返旋回運(yùn)動(dòng);調(diào)節(jié)單元,其與在所述臂的末端旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)軸連動(dòng)并進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng),在底面把持調(diào)節(jié)盤(pán)并對(duì)所述研磨墊加壓的同時(shí)對(duì)所述研磨墊表面進(jìn)行微細(xì)切削;位移傳感器,其測(cè)量所述調(diào)節(jié)盤(pán)的上下移動(dòng)位移量;控制部,其從所述位移傳感器感知根據(jù)所述調(diào)節(jié)盤(pán)的往返旋回運(yùn)動(dòng)路徑的所述調(diào)節(jié)盤(pán)的高度變動(dòng)量,并測(cè)量為所述研磨墊的高度偏差。因此,本實(shí)用新型能夠更快更準(zhǔn)確地計(jì)算出,為了緩和研磨墊表面高度偏差向調(diào)節(jié)盤(pán)施加的加壓力,更加提高了緩和研磨墊高度偏差的平坦化效率。
聲明:
“可測(cè)量研磨墊高度偏差的化學(xué)機(jī)械研磨裝置的調(diào)節(jié)器” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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