本申請公開了一種微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置，包括：諧振腔；沉積臺，設(shè)置于諧振腔內(nèi)，包括基板以及為基板降溫的冷卻裝置，該冷卻裝置包括冷卻水回路，所述冷卻水回路上設(shè)置有VCR接頭。本申請還公開了一種極高真空的控制方法，包括：建立真空腔體的靜態(tài)壓升力曲線，其中，橫坐標(biāo)為時間，縱坐標(biāo)為壓力，并控制：曲線的起始點小于1.0×10?11Pa；曲線切線斜率小于1.0×10?8pa/min；真空腔體的總泄露率小于10?8Pa.l/s。本發(fā)明可以有效的解決微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置的泄露，可以明顯提供鉆石生產(chǎn)的品質(zhì)。