本發(fā)明實(shí)施例提供了現(xiàn)場
電化學(xué)顯微光譜成像方法以及系統(tǒng),以解決市售普通工作電極無法應(yīng)用于在光譜電化學(xué)技術(shù)中,并且,很難采集到工作電極表面的信息的問題。上述系統(tǒng)包括光源設(shè)備、電化學(xué)信號設(shè)備、電化學(xué)接口設(shè)備以及顯微光譜成像設(shè)備。上述電化學(xué)接口設(shè)備可豎直安放市售普通的工作電極,光源設(shè)備提供的入射光斜照在工作電極的表面上,經(jīng)反射后被顯微光譜成像設(shè)備采集到。上述反射光包含了工作電極表面的信息,顯微光譜成像設(shè)備從而可根據(jù)反射光生成光譜和對工作電極表面顯微成像,因此解決了依靠現(xiàn)有的設(shè)備很難采集到工作電極表面的信息的問題。同時(shí)實(shí)現(xiàn)了將市售的普通工作電極應(yīng)用于在光譜電化學(xué)技術(shù)中的目的。
聲明:
“現(xiàn)場電化學(xué)顯微光譜成像分析方法及系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)