本發(fā)明公開了一種CrB₂涂層的制備方法。采用直流磁控濺射法，設(shè)計(jì)靶源磁場(chǎng)由位于靶面底部的環(huán)形磁鐵與直線型磁鐵組成，通過對(duì)靶源磁場(chǎng)的設(shè)計(jì)，使靶面不同位置具有不同的磁場(chǎng)強(qiáng)度，并對(duì)應(yīng)的放置一系列樣品，在各樣品表面沉積CrB₂涂層，然后對(duì)各涂層進(jìn)行性能檢測(cè)，得到與所需CrB₂涂層性能最接近的CrB₂樣品涂層，該樣品在樣品架上的放置位置即為待沉積基體的放置位置，從而實(shí)現(xiàn)所需性能涂層的制備。