本發(fā)明專利屬于電阻率測深解釋領域，具體公開一種電阻率測深的解釋及繪圖方法，該方法如下：整理及準備數(shù)據(jù)；繪制電阻率曲線；根據(jù)電阻率曲線形態(tài)判斷其類型；根據(jù)電阻率曲線類型給定電性層電阻率及厚度；運行程序、計算T函數(shù)擬合誤差；保存程序中的計算結果；根據(jù)計算結果繪制剖面等值線斷面圖；繪制地質(zhì)斷面圖等。使用本方法進行電阻率測深數(shù)據(jù)解釋和繪制圖件，具有以下優(yōu)點：1.操作簡單、方便；2.通過T函數(shù)擬合，解釋結果更接近于實際；3.該解釋軟件可為基層物探技術員的數(shù)據(jù)處理解釋提供較多便利。本方法適用于電阻率測深法的數(shù)據(jù)解釋成圖，為野外生產(chǎn)提供較為有意義的指導。