本發(fā)明提供了一種深反射地震剖面隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)確定方法、裝置和電子設(shè)備,涉及地質(zhì)勘探的技術(shù)領(lǐng)域,在獲取到深反射地震剖面數(shù)據(jù)之后,首先將其拆分成多個(gè)子地震剖面數(shù)據(jù),然后基于現(xiàn)代譜分析方法確定目標(biāo)子地震剖面數(shù)據(jù)的自相關(guān)函數(shù),進(jìn)而求解目標(biāo)子地震剖面數(shù)據(jù)的隨機(jī)介質(zhì)參數(shù),最后根據(jù)所有子地震剖面數(shù)據(jù)的隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)確定深反射地震剖面數(shù)據(jù)的隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)。本發(fā)明先將深反射地震剖面數(shù)據(jù)拆分成相對(duì)較短的數(shù)據(jù),然后采用現(xiàn)代譜分析方法求解短數(shù)據(jù)的自相關(guān)函數(shù),其計(jì)算誤差遠(yuǎn)小于直接進(jìn)行自相關(guān)函數(shù)計(jì)算的方法,進(jìn)而使得求解得到的隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)更精確,有效的緩解了現(xiàn)有技術(shù)中的深反射地震剖面隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)確定方法存在的準(zhǔn)確性差的技術(shù)問(wèn)題。
聲明:
“深反射地震剖面隨機(jī)介質(zhì)參數(shù)確定方法、裝置和電子設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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