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X射線直接探測(cè)器及其制備方法

1135   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-02-28 01:00:09
本申請(qǐng)屬于光電技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種X射線直接探測(cè)器及其制備方法。其中,X射線直接探測(cè)器的制備方法,包括步驟:將有機(jī)脲、有機(jī)配體、鹵化碳族金屬和鹵鹽溶解于有機(jī)溶劑中,配置成前驅(qū)體溶膠;鹵鹽包括有機(jī)鹵化銨或者鹵化堿金屬;將前驅(qū)體溶膠在襯底表面成膜處理后,退火處理,在襯底表面形成二維雜化鈣鈦礦的量子陣列膜層;在量子陣列膜層背離襯底的表面制備電極層,得到X射線直接探測(cè)器。本申請(qǐng)X射線直接探測(cè)器的制備方法,有機(jī)脲可以抑制二維雜化鈣鈦礦中八面體的快速聚集團(tuán)聚,量子陣列膜層的厚度可以達(dá)到100μm以上,二維雜化鈣鈦礦在襯底表面垂直于襯底取向生長(zhǎng),形成厚度高、對(duì)X射線具有強(qiáng)吸收的量子陣列膜層,探測(cè)靈敏度高。
聲明:
“X射線直接探測(cè)器及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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