權(quán)利要求 1.一種平面銅靶材的制備方法，其特征在于，包括： 步驟S1：制備高純無氧銅桿; 步驟S2：連續(xù)擠壓所述無氧銅桿以形成坯料，并在擠壓過程中對(duì)所述坯料進(jìn)行防氧化保護(hù); 步驟S3：待所述坯料冷卻至室溫后進(jìn)行單道次低變形量拉拔操作，控制拉拔變形量為1.5%-3%，控制拉拔變形溫度在300℃-500℃; 步驟S4：重復(fù)上述步驟S2和步驟S3至少兩次; 步驟S5：對(duì)坯料進(jìn)行矯直操作; 步驟S6：對(duì)坯料進(jìn)行機(jī)加工操作，制成銅靶材。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S2中，使用連續(xù)擠壓機(jī)進(jìn)行連續(xù)擠壓操作，使用防氧化冷卻循環(huán)裝置使所述坯料冷卻至室溫。 3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的平面靶材的制備方法，其特征在于，所述連續(xù)擠壓機(jī)內(nèi)設(shè)有擠壓輪、和擠壓模具，所述擠壓輪轉(zhuǎn)速為2-3r/min; 所述擠壓模具包括上模具(41)和下模具(42)，所述上模具(41)和下模具(42)可拆卸連接，形成模具入口(43)和模具出口，所述上模具(41)與下模具(42)之間設(shè)有相互契合為半圓形的上支凸起結(jié)構(gòu)(44)和下支凸起結(jié)構(gòu)(45)，所述上支凸起結(jié)構(gòu)(44)和下支凸起結(jié)構(gòu)(45)之間存有矩形間隙;所述擠壓模具出口處設(shè)有不等寬斜面。 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S1中，使用上引連鑄法制備高純無氧銅桿，具體操作為：以電解銅為生產(chǎn)原料，將原料投入熔煉爐中，通入惰性保護(hù)氣體，采用上引連鑄爐用無氧銅住坯結(jié)晶器進(jìn)行無氧銅桿的成型。 5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S6中，使用數(shù)控機(jī)床進(jìn)行機(jī)加工操作，包括：粗盤面、粗銑、倒角、精銑和精盤面，其中粗盤面、粗銑和倒角中單次銑削吃刀量低于0.2mm，精銑和精盤面中單次吃刀量為0.05mm。 6.一種應(yīng)用權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的平面銅靶材的磁控濺射方法，其特征在于，包括： 步驟1：將銅靶材與背板結(jié)合，得到濺射靶材，再測(cè)量背板底面的平整度，并對(duì)該濺射靶材進(jìn)行探傷; 步驟2：對(duì)合格后的濺射靶材進(jìn)行粗打磨處理，并對(duì)該濺射靶材上非預(yù)噴砂區(qū)域進(jìn)行防護(hù); 步驟3