本發(fā)明公開了一種低溫(150oC)檢測(cè)氮氧化物氣敏元件的制備方法:首先采用p型單晶硅作為基底,利用雙槽
電化學(xué)的方法在基底表面制備多孔硅層;其次以金屬鎢作為耙材,利用磁控濺射的方法在多孔硅表面沉積金屬鎢薄膜;然后,在水平管式爐中采用熱退火金屬鎢薄膜的方法制備多孔硅/氧化鎢納米線復(fù)合結(jié)構(gòu);最后,在多孔硅/氧化鎢納米線復(fù)合結(jié)構(gòu)表面沉積鉑電極,制得低溫檢測(cè)氮氧化物氣敏元件,其在低溫且對(duì)低濃度NOx氣體具有高靈敏度、高選擇性以及良好響應(yīng)恢復(fù)特性。該方法具有設(shè)備簡單、操作方便、工藝參數(shù)易于控制、成本低的優(yōu)點(diǎn),具有重要的實(shí)踐與研究意義。
聲明:
“低溫檢測(cè)氮氧化物氣敏元件的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)