本發(fā)明公開(kāi)了一種化學(xué)機(jī)械研磨時(shí)間控制方法,包括以下步驟:建立光片速率的均值規(guī)格;測(cè)試機(jī)臺(tái)光片的研磨速率;測(cè)量晶圓膜厚前值;測(cè)試光片有臺(tái)階差和無(wú)臺(tái)階差時(shí)的速率;計(jì)算比較因子;測(cè)量第一個(gè)需要研磨產(chǎn)品的膜厚前值和臺(tái)階高度;計(jì)算第一個(gè)產(chǎn)品需要研磨的時(shí)間,進(jìn)行研磨;測(cè)量第一個(gè)產(chǎn)品膜厚后值,判斷膜厚后值是否超規(guī)格;計(jì)算第二個(gè)產(chǎn)品所需要的研磨時(shí)間,研磨后判斷膜厚后值是否超規(guī)格;計(jì)算第N個(gè)產(chǎn)品所需要的研磨時(shí)間,研磨后判斷膜厚后值是否超規(guī)格。本發(fā)明通過(guò)預(yù)估和修正新產(chǎn)品的研磨時(shí)間,減少生產(chǎn)線上做試生產(chǎn)的頻率,降低人工成本,提高設(shè)備的利用率,提高生產(chǎn)效率。