本發(fā)明涉及一種銅離子印跡膜的制備方法,是針對(duì)低濃度的重金屬?gòu)U水處理難的情況,采用電控離子交換技術(shù)以及離子印跡技術(shù)相結(jié)合,在三電極體系下采用任意恒電位階梯波法制備離子印跡膜,此制備方法工藝先進(jìn),不會(huì)造成二次污染和浪費(fèi)、數(shù)據(jù)精確翔實(shí),產(chǎn)物為聚合在碳布上的黑色物質(zhì),微觀形貌為類球狀物質(zhì),亞鐵氰根離子摻雜到膜中,對(duì)于低濃度的重金屬?gòu)U水具有良好的去除能力,是先進(jìn)的離子印跡膜的制備方法。
聲明:
“銅離子印跡膜的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)