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Ni亞微米陣列的制備工藝

1020   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:26:07
本發(fā)明提出了一種Ni亞微米陣列的制備工藝。它先將基底和Ni靶材進(jìn)行清洗預(yù)處理;然后在基底上沉積Ni層;接著對沉積后的模板進(jìn)行熱處理;最后用堿液溶解模板,除去模板后用去離子水洗滌,即可得到Ni亞微米陣列,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是,本發(fā)明工藝所采用的是磁控濺射方法,工藝簡單易行且重復(fù)性好,所需成本低,清潔環(huán)保,適合于規(guī)模化應(yīng)用;所制得的Ni亞微米陣列高度有序,直徑一致,并可以采用不同規(guī)格的AAO模板制備不同長度和直徑的Ni亞微米陣列以滿足實(shí)際需要;所制備的Ni亞微米陣列結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,能夠顯著提高電極活性物質(zhì)的比表面積,有效提高了鋰離子電池的電化學(xué)性能。
聲明:
“Ni亞微米陣列的制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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