本發(fā)明公開一種SnO2/Ag2(1?x)NixFe2O4復(fù)合薄膜材料的制備方法，所述Ag2(1?x)NixFe2O4中的x＝0.05～0.5，包括以下步驟：S1：玻璃基片的預(yù)處理；S2：制備改性SnO2溶膠：S201：制備SnO2溶膠；S202：制備納米TiO2改性SnO2溶膠；S3：制備Ag2?xNixFe2O4前驅(qū)體溶液；S4：制備SnO2/Ag2(1?x)NixFe2O4復(fù)合膜：S401：將S1預(yù)處理后玻璃基片浸于改性SnO2溶膠中處理10min，再以1mm/s的提拉速度緩慢將其取出液面，80℃干燥10min，記為鍍改性SnO2膜1層；S402：重復(fù)S401操作0～4次；S403：煅燒；S404：鍍Ag2(1?x)NixFe2O4膜1層；S405：重復(fù)S404操作0～4次；S406：450～600℃煅燒2h。本發(fā)明通過構(gòu)建異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)，改變電子的傳遞路徑，減少光生電子?空穴對(duì)的數(shù)量，進(jìn)而提高復(fù)合材料的光催化活性和穩(wěn)定性；同時(shí)，對(duì)可見光的光譜響應(yīng)范圍廣。