本發(fā)明公開(kāi)了用于金屬復(fù)合材料表面鍍層的磁控噴射裝置及工作方法，包括鍍膜室、安裝在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸上的多個(gè)用于放置待鍍膜件的轉(zhuǎn)盤、設(shè)置在所述鍍膜室內(nèi)并對(duì)稱安裝在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸兩側(cè)的第一磁控濺射對(duì)靶和第二磁控濺射對(duì)靶；在所述鍍膜室上設(shè)置有對(duì)所述第一磁控濺射對(duì)靶和第二磁控濺射對(duì)靶進(jìn)行冷卻降溫的冷卻系統(tǒng)。本申請(qǐng)中通過(guò)在所述鍍膜室的頂部安裝有旋轉(zhuǎn)工作架，在所述旋轉(zhuǎn)工作架上安裝有用于驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的減速驅(qū)動(dòng)電機(jī)，從而通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)盤上的待鍍層件進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，便于各個(gè)角度均勻地進(jìn)行磁控濺射鍍層；另外在冷卻系統(tǒng)中回轉(zhuǎn)排布的冷卻管有效地對(duì)磁控濺射對(duì)靶進(jìn)行降溫，從而提高磁控濺射對(duì)靶運(yùn)行的穩(wěn)定性。