本發(fā)明公開(kāi)了一種連續(xù)礦漿電解浸出設(shè)備，包括調(diào)漿槽、殘液儲(chǔ)存槽及若干個(gè)電解浸出槽，所述調(diào)漿槽、電解浸出槽的上部均設(shè)有溢流口，所述溢流口上設(shè)有溢流管，所述調(diào)漿槽、電解浸出槽、殘液儲(chǔ)存槽通過(guò)上部的溢流管依次連接，所述調(diào)漿槽的高度高于電解浸出槽，殘液儲(chǔ)存槽的高度低于電解浸出槽。本發(fā)明將多個(gè)電解浸出槽串聯(lián)，提高礦漿的浸出回收率，礦漿泵將殘液儲(chǔ)存槽內(nèi)的礦漿泵入調(diào)漿槽或任意電解浸出槽中繼續(xù)進(jìn)行電解浸出，提高生產(chǎn)及設(shè)備的效率，電解浸出槽內(nèi)設(shè)有擋板，可提高礦漿均勻性，并延長(zhǎng)礦漿流動(dòng)路徑，提高浸出回收率，電解浸出槽采用大面積電極板進(jìn)行電解，可減少極板數(shù)量，便于使用隔膜電解并減少電極板操作維護(hù)。