權(quán)利要求書： 1.一種基于鋁氣化反應(yīng)的納米氮化鋁粉體合成裝置，其特征在于包括：外殼（100）； 噴霧單元，設(shè)于外殼內(nèi)； 氣化單元，設(shè)于外殼內(nèi)且銜接于噴霧單元下方； 反應(yīng)單元，設(shè)于外殼內(nèi)且銜接于氣化單元下方； 冷卻單元，銜接于氣化單元下方； 所述噴霧單元包括：送鋁機(jī)構(gòu)（201）、保溫殼體（202）、加熱罩（203）、鋁液倉（204）、氮?dú)鈬姽埽?05）和絕緣蓋座（206）； 所述加熱罩設(shè)于保溫殼體內(nèi)，加熱罩內(nèi)壁上布設(shè)有電熱絲（207）；所述鋁液倉的中下段設(shè)于加熱罩內(nèi)且與加熱罩內(nèi)壁之間設(shè)有間隙，鋁液倉的頂部設(shè)有氬氣進(jìn)口（208），鋁液倉的底部延伸出加熱罩底部且設(shè)有向下的霧化噴嘴（209）；所述氮?dú)鈬姽芡ㄈ脘X液倉內(nèi)中央且其出氣口朝向所述霧化噴嘴；所述送鋁機(jī)構(gòu)設(shè)于鋁液倉的頂部；所述絕緣蓋座設(shè)于保溫殼體和加熱罩的下方，絕緣蓋座的內(nèi)圈與鋁液倉的底部外壁之間設(shè)有間隙； 所述氣化單元包括：由上保溫絕緣外層（301）、隔熱中層（302）和發(fā)熱體內(nèi)層（303）依次構(gòu)成的氣化室、感應(yīng)線圈（304）； 所述氣化室的頂部中央設(shè)有用于安置絕緣蓋座的開口；氣化室的底部中央設(shè)有連通反應(yīng)單元的開口；所述感應(yīng)線圈包裹于上保溫絕緣外層的外側(cè)；所述發(fā)熱體內(nèi)層的底部呈口徑遞減的錐形，所述錐形與隔熱中層之間的空隙處填充有發(fā)熱填充體（305）和隔熱板（306）；所述隔熱板位于氣化室的底部位置； 所述反應(yīng)單元包括：由下保溫絕緣外層（401）和耐熱內(nèi)層（402）構(gòu)成的反應(yīng)室、渦旋噴管（403）； 所述耐熱內(nèi)層的底部呈口徑遞減的錐形，錐形底部中央連接有出料管（404），所述渦旋噴管通過出料管由反應(yīng)室外伸入反應(yīng)室內(nèi)，且渦旋噴管的出氣端設(shè)有渦旋噴嘴（405），所述渦旋噴嘴位于氣化室底部開口正下方且噴氣方向向上； 所述冷卻單元包括：冷卻室殼體（501）、螺旋噴嘴（502）和下冷媒夾套（503）； 冷卻室殼體的頂部中央設(shè)有開口，所述螺旋噴嘴設(shè)于開口處且通過連接法蘭（504）與反應(yīng)單元的出料管連接，螺旋噴嘴方向向下；冷卻室殼體上設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)口（505），冷卻室殼體的底部呈口徑遞減的錐形，錐形底部中央為氣粉出口（506）；所述下冷媒夾套設(shè)于冷卻室殼體的外側(cè)。 2.如權(quán)利要求1所述的納米氮化鋁粉體合成裝置，其特征在于：所述外殼上設(shè)有氬氣入口（101）。